A escolha entre fornos horizontais e verticais depende de vários fatores, incluindo os processos específicos de fabricação de semicondutores empregados e os objetivos da instalação de fabricação. Cada orientação tem suas vantagens e desvantagens, e a seleção pode ser influenciada por fatores como tamanho do wafer, requisitos do processo e fluxo de trabalho geral de fabricação.