Ampiamente adottato nell'industria dei semiconduttori, l'LPCVD trova applicazioni nella deposizione di materiali come nitruro di silicio, biossido di silicio e polisilicio. La sua natura controllata e la capacità di ottenere uno spessore e un'uniformità precisi rendono l'LPCVD una pietra miliare nella creazione di dispositivi semiconduttori avanzati. Operando a pressioni inferiori rispetto ad altri metodi di deposizione chimica in fase vapore, l'LPCVD garantisce un controllo meticoloso sulle proprietà della pellicola.